半導體AMC無塵室微污染監測技術

無塵室微污染監測技術

在終端消費者嚮往產品輕巧薄的趨勢下，半導體產業如今日已正式跨入10 nm以下製程線寬標準，回應在生產品質的控管與製程材料的規格上，無疑面對更嚴苛的挑戰。在先進製程中縮小線寬的發展下，製程中只要有微污染之有機/無機物的殘留，就會發生預期外之製程風險進並且降低產品的良率表現。

依據 SEMI F21-1102定義無塵室氣動分子污染物（Airborne Molecular Contamination, AMC）分為：酸（Acids）、鹼（Bases）、可凝結性的有機污染物（Condensable Organic Compounds）與微量重金屬（Trace Metals）四類。AMC微汙染分析監測，即微整合先進分析技術監測無塵室中氣動污染物的種類與濃度，結合污染物的屬性資料庫，降低空氣汙染狀況以及提升產品良率數值。

聯宙科技所採用離子層析儀 (Ion Chromatography, IC) 能分析的離子幾乎涵蓋所有的測項，在某些分析中可取代A. A., Emission, GC, NMR, Ion Meter等。目前已能分析的離子有K, Na, Ca, Mg, NH4, F, Cl, Br, NO2, NO3, SO2, SO3, PO4等。

系統特點

1. 低濃度分析 (ppt等級)

2. 多點採樣系統整合

3. 24小時線上分析，分析周期每30分鐘出一筆資料(產品規格各項成分)

4. 反應環境品質濃度，迅速監控製程空氣品質

聯宙科技致力於半導體產業AMC微污染監測技術之開發與精進，針對製程環境與材料所需開發出不同應用的「On-line全時微污染監測設備」，並且搭配使用者端的空間大小與測項多寡提供客製化的多元選擇。總而言之，只要能確實對各微污染物進行全時定量的on-line監測，即可掌握污染物的來源，有效且快速移除可能的威脅，聯宙科技是提高製程良率的最佳專業伙伴。